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SK海力士在华工厂使用中国产氟化氢取代日本产品

2019-9-6 11:15| 发布者: suanlba| 查看: 357| 评论: 0

摘要: 据韩国《中央日报》报道,在日本政府限制向韩国出口氟化氢、光刻胶、含氟聚酰亚胺等尖端半导体材料一个半月后,三星电子开始使用替代产品。报道称,三星电子和SK海力士寻找日产氟化氢替代材料的工作比预期进展顺利,预计到年底前后,可以完全替代日本产品。SK海力士计划尽快对韩国国内企业生产的氟化氢进行试用。据了解,SK海力士 ...

据韩国《中央日报》报道,在日本政府限制向韩国出口氟化氢、光刻胶、含氟聚酰亚胺等尖端半导体材料一个半月后,三星电子开始使用替代产品。报道称,三星电子和SK海力士寻找日产氟化氢替代材料的工作比预期进展顺利,预计到年底前后,可以完全替代日本产品。SK海力士计划尽快对韩国国内企业生产的氟化氢进行试用。据了解,SK海力士设在中国无锡的半导体工厂已经完全使用中国生产的氟化氢取代了日本产品。

海力士为原来的现代内存,2001年更名为海力士。2012年更名SK hynix。海力士半导体在1983年以现代电子产业有限公司成立,在1996年正式在韩国上市,1999年收购LG半导体,2001年将公司名称改为(株)海力士半导体,从现代集团分离出来。2004年10月将系统IC业务出售给花旗集团,成为专业的存储器制造商。2012年2月,韩国第三大财阀SK集团宣布收购海力士21.05%的股份从而入主这家内存大厂。

在韩国有4条8英寸晶圆生产线和一条12英寸生产线,在美国俄勒冈州有一条8英寸生产线。2004年及2005年全球DRAM市场占有率处于第二位,中国市场占有率处于第一位。在世界各地有销售法人和办事处,共有员工15000人.海力士(Hynix)半导体作为无形的基础设施,通过半导体,竭尽全力为客户创造舒适的生活环境。海力士半导体致力生产以DRAM和NAND Flash为主的半导体产品。


氟化氢(hydrogen fluoride),化学式HF,是由氟元素与氢元素组成的二元化合物。它是无色有刺激性气味的气体 [1]  。氟化氢是一种一元弱酸。氟化氢及其水溶液均有毒性,容易使骨骼、牙齿畸形,氢氟酸可以透过皮肤被黏膜、呼吸道及肠胃道吸收,中毒后应立即应急处理,并送至就医。与五氟化锑混合后生成氟锑酸(HSbF6)。


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