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武汉依麦德新材料科技有限责任公司Hylimide®TPI356无色透明聚酰亚胺薄膜

2019-12-9 14:40| 发布者: menwei| 查看: 673| 评论: 0

摘要: 武汉依麦德新材料科技有限责任公司拥有一个自主研发基地,三个生产基地,其中自主研发基地承担科技部863计划,掌握聚酰亚胺单体合成、聚合工艺、薄膜制造的核心技术;武汉生产基地已经建成百级、千级生产车间600平米,用于柔性OLED显示用PI液体产品生产,年产能300吨;阜新生产基地拥有厂区面积60亩,拟建四个生产车间,占地面积共15 ...

武汉依麦德新材料科技有限责任公司拥有一个自主研发基地,三个生产基地,其中自主研发基地承担科技部863计划,掌握聚酰亚胺单体合成、聚合工艺、薄膜制造的核心技术;武汉生产基地已经建成百级、千级生产车间600平米,用于柔性OLED显示用PI液体产品生产,年产能300吨;阜新生产基地拥有厂区面积60亩,拟建四个生产车间,占地面积共15000平方米;现已建成两个车间,占地面积5000平方米,可容纳4条光学薄膜生产线,年产能400吨;全面建成后可装备八条生产线,将达到年生产能力800吨;东营合资生产基地拥有国产PI薄膜生产线4条,年产能200吨,已定制进口光学级PI薄膜生产线一套,投资1.5亿元,年产能200吨,5条生产线将达到年产能400吨。

Hylimide®TPI356无色透明聚酰亚胺薄膜产品物性一览表

项 目

单位

指标

测试条件

执行标准

厚度

μm

12.5

25

50

23℃

ASTM D374

玻璃化转变温度(Tg)

356

356

356

光学指标

透光率(400nm)

%

83

83

83

23℃

ASTM D1003

透光率(500nm)

%

87

87

87

23℃

ASTM D1003

折射率(nTE)

1.56

1.56

1.56

23℃

ASTM D1003

折射率(nTM)

1.55

1.55

1.55

23℃

ASTM D1003

机械指标

拉伸强度

MPa

145

170

160

23℃

ASTM D882

伸长率

%

15

20

20

23℃

ASTM D882

杨氏模量

GPa

2

3

4

23℃

ASTM D882

电性能指标

介电常数

3.3

3.3

3.3

1MHz 23℃

ASTM D150

介质损耗因数

0.007

0.007

0.007

1MHz 23℃

ASTM D150

体积电阻率

Ω∙cm

>1014

>1014

>1014

500V 23℃

ASTM D257

表面电阻率

Ω

>1014

>1014

>1014

500V 23℃

ASTM D257

介电强度

v/μm

160

200

180

23℃

ASTM D149

热学指标

热膨胀系数

ppm/℃

18

18

18

100~200℃

ASTM D696

30

30

30

200-300℃

尺寸稳定性

%

0.12

0.12

0.12

200℃,2Hr

ASTM D5213–04

物理性能

吸水性

%

2.5

2.5

2.5

23℃,浸润24Hr

ASTM D570

密度

g/cm3

1.38

1.38

1.38

23℃

ASTM D1505

湿润张力

mN/m

60

60

60

23℃

IEC674-2

阻燃等级

VTM-0

VTM-0

VTM-0

垂直燃烧试验

化学性能

纵向拉伸强
  度保留值(%)

100

100

100

23℃ 下浸泡10Min,
  24小时后进行检测

ASTM D882

10%盐酸

98

98

98

10%硫酸

97

97

97

5%氢氧化钠

90

90

90

无色透明聚酰亚胺薄膜发展历史该产品具有超高耐温、透光率高、尺寸稳定度高等特点。产品主要用于PMOLED柔性显示屏、OLED柔性照明、柔性E-ink基板、高尺寸稳定度透明线路板等领域。产生厚度范围薄膜:12.5μm-50μm,薄膜成卷包装,特殊厚度可以定制。

2007年三菱瓦斯率先宣布实现了商品名位Neopulim的无色透明聚酰亚胺薄膜的量产,可长期耐受280℃高温而不发生黄变。三菱瓦斯的专利CNlol674923B的优先权目为2007年5月24日,恰与其Neopulim的工业化时间相符,应与该商品化聚酰亚胺膜有重要关联。该专利未从分子链结构的角度对聚酰亚胺膜进行保护,而是从制备工艺和装置的角度提出权利要求,可见,三菱瓦斯对于无色透明聚酰亚胺薄膜的专利保护是多维度的,这样的保护策略值得国内研发主体学习。该项专利的被引用频次为25,被三菱瓦斯的多家竞争对手所引用,包括钟化、宇部兴产、日立化学、东洋纺织等。


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