只需一步,快速开始
如何突破限制激光技术应用及微加工精度的所谓“200nm”墙的限制,取决于新颖高效的深紫外(DUV,λ < 200 nm)非线性光学(NLO)晶体的发现和创制。深紫外NLO晶体材料是是中国掌握的、处于国际领先地位的“卡脖子 ...
小黑屋|手机版|Archiver|版权声明|一起进步网 ( 京ICP备14007691号-1 )
GMT+8, 2024-5-4 02:34 , Processed in 0.080295 second(s), 37 queries .
Powered by Discuz! X3.2
© 2001-2013 Comsenz Inc.