山东大学公共技术实验室高真空多靶磁控溅射镀膜机

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高真空多靶磁控溅射镀膜机
联系人        欧阳俊
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生产厂家        北京泰克诺科技有限公司
型号        JCP-350M2
购买日期        2013.12.10
主要规格及技术指标
1. 真空腔室：φ350 mm×H400mm，304 优质不锈钢真空腔室； 2. 真空系统：复合分子泵+直联旋片泵准无油真空系统，高真空气动阀门，数显复合真空计； 3. 真空极
主要功能及特色
JCP-350M2 高真空多靶磁控溅射镀膜机，标配2 只磁控靶，另预留1 只靶位及1 对蒸发电极接口，能够溅射蒸发两用；各溅射靶与基片台均配独立挡板，以保证镀膜的工艺性（预溅射、多层膜、掺杂膜、防止交叉污染和干扰等）；设备标配多靶，可以采用单靶独立、多靶轮流和组合共溅工作模式，向心溅射；基片台可加负偏压对基片进行清洗活化、辅助溅射功能。 该设备主要用来开发纳米级单层及多层的金属导电膜（可溅射铁、钴、镍等磁性膜）、半导体膜以及绝缘膜等。