南京航空航天大学超高真空磁控溅射台

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仪器名称        超高真空磁控溅射台
仪器型号        JGP480        仪器类别        材料生长、镀膜设备
仪器厂商        中科院沈阳科学仪器有限公司        仪器原值        50万元
购买时间        2004.11        启用时间        2004.11
机组负责人        陈建康        服务领域       
联系电话        84895871        E-mail       
所在单位        南京航空航天大学        更新日期       
收费标准        200元/样品
技术指标        溅射真空室尺寸:480*280 ,极限真空:6.6*10-4Pa,磁控靶靶材尺寸:4*60,样品台加热温度:800度,电源配置及总功率:50Hz,380v,220v,10kw.
仪器用途        纳米级的单层及多层功能膜--各种硬质膜,金属膜,半导体膜,介质膜,铁磁膜和磁性薄膜等的研究开发.