中国科学技术大学化学物理系路军岭

zhuimengren

路军岭，中国科大化学与材料科学学院、化学物理系教授。2007年于中科院物理研究所博士毕业。2004至2006年，赴德国弗里茨-哈伯马普所工作访问。2007至2013年，先后在美国西北大学表面与催化中心和美国阿贡国家实验室从事博士后研究工作。多年来，一直从事表面物理、表面物理化学的基础研究，以及负载型纳米催化剂的制备、表征和催化性质研究等工作。其中在利用原子层沉积技术（ALD）实现在原子层面对金属催化剂的精确改性、及新型催化剂的精确设计和制备方面做出了出色的工作。先后在Science, Nature Commun., Nature Chem., Acc. Chem. Res., J. Am. Chem. Soc. Angew. Chem. Int. Ed., Phy. Rev. Lett.等期刊发表SCI论文60多篇，另发表学术章节一篇和授权国际专利2项。



姓 名：路军岭
出 生：1979年10月
地 址：中国科学技术大学，化学物理系
电 话：0551-63600359
邮 件：junling@ustc.edu.cn
课题组：http://staff.ustc.edu.cn/~junling

教育和研究经历
2013-至今， 中国科学技术大学，化学物理系，教授，博士生导师
2010-2013，美国阿贡国家实验室， 博士后
2007-2010，美国西北大学 ， 博士后
2004-2006，德国Fritz-Haber-Institut 马普所，交换访问研究生
2002-2007，中科院物理研究所，博士
1998-2002，河南大学，物理系，本科

研究兴趣
1. 围绕原子层沉积技术，催化材料的原子级精细设计
2. 多相催化，金属纳米催化
3. 先进功能材料设计
热忱欢迎物理化学、材料、化学等专业背景的青年才俊加盟！

代表论文
[1] J. L. Lu, K.-B. Low, Y. Lei, J. A. Libera, A. Nicholls, P. C. Stair, and J. W. Elam, Toward Atomically-Precise Synthesis of Supported Bimetallic Nanoparticles Using Atomic Layer Deposition, Nature Commun., 5, 3264 (2014).
[2] J. L. Lu, B. S. Fu, M. C. Kung, G. M. Xiao, J. W. Elam, H. H Kung, and P. C Stair, Coking-and sintering-resistant palladium catalysts achieved through atomic layer deposition, Science, 335, 1205-1208 (2012).
[3] J. L. Lu, J. W. Elam, and P. C Stair, Synthesis and Stabilization of Supported Metal Catalysts by Atomic Layer Deposition, Acc. Chem. Res., 46, 1806–1815 (2013).
[4] J. L. Lu, and P. C Stair, Low-Temperature ABC-Type Atomic Layer Deposition: Synthesis of Highly Uniform Ultrafine Supported Metal Nanoparticles, Angew. Chem. Int. Ed., 49, 2547-2551 (2010).
[5] C. P. Canlas, J. L. Lu, N. A. Ray, N. A. Grosso-Giordano, S. Lee, J. W. Elam, R. E. Winans, R. P Van Duyne, P. C Stair, and J. M. Notestein, Shape-selective sieving layers on an oxide catalyst surface, Nature Chem.,4, 1030–1036 (2012).
[6] J. L. Lu, B. Liu, J. P. Greeley, Z. X. Feng, J. A. Libera, Y. Lei, M. J. Bedzyk, P. C. Stair, and J. W. Elam, Porous Alumina Protective Coatings on Palladium Nanoparticles by Self-Poisoned Atomic Layer Deposition, Chem. Mater., 24, 2047-2055 (2012).