天津大学化工学院王拓

xianghong

王　拓

现任职称/职务：教授、博士生导师
通讯地址：天津市津南区天津大学北洋园校区化工学院
电子邮箱：wangtuo@tju.edu.cn
办公电话：022-85356061

研究方向:

光催化水分解制氢、光催化CO2还原

实验室链接：Link

教育经历：

2002年9月 – 2006年7月，天津大学，化学工程与工艺专业，本科

2006年8月 – 2010年8月，Universityof Texas at Austin，化工系，博士

工作经历：

2010年9月 – 2011年5月，Universityof Texas at Austin，化工系，博士后

2011年6月 – 2012年6月，LamReaearch Corp., PECVD Business Unit, Process Development Engineer

2012年8月 – 至今，天津大学，化工学院，副教授、教授

研究简介：

光解水制氢、CO2光还原：将太阳能直接转换为化学能

讲授课程:

微纳米材料与技术导论（英文）

学术成就:

2017  国家优青

2016  天津市“青年科技优秀人才”

2016  天津大学北洋青年学者2013 天津市“青年##”

2013  天津大学北洋学者--青年骨干

2010  国家优秀留学生奖学金，中国国家留学基金管理委员会

科研项目:

1. 国家自然科学基金联合基金：窄禁带半导体光解水电极的三维纳米构筑及表面薄膜修饰，2017/01-2019/12；

2. Lam Research Fundation：Study of theIncubation Period for ALD Oxides，2016/01-2017/12；

3. 国家自然科学基金青年基金：原子层沉积制备TiO2三维纳米结构及其光催化性能研究，2014/01-2016/12

4. 天津市自然科学基金：均相掺杂氧化物薄膜的原子层沉积及其光催化性能研究，2013/10–2016/09；

5. 教育部博士点基金：三维光催化薄膜的可控掺杂与界面效应研究，2014/01-2016/12；  

6. 教育部留学回国人员科研启动基金

论著专利:

(15) Chengcheng Li, Ang Li, ZhibinLuo, Jijie Zhang, Xiaoxia Chang, Zhiqi Huang, Tuo Wang*, andJinlong Gong*, "Surviving High Temperature Calcination: ZrO2-inducedHematite Nanotubes for Photoelectrochemical Water Oxidation," Angew.Chem. Int. Ed. 2017, in press. [url=http://dx.doi.org/10.1002/anie.201611330]http://dx.doi.org/10.1002/anie.201611330[/url]

(14) Zhibin Luo, Chengcheng Li,Shanshan Liu, Tuo Wang*, and Jinlong Gong*, "Gradient Dopingof Phosphorus in Fe2O3 Nanoarray Photoanodes for Enhanced Charge Separation," Chem. Sci. 2017, 8, 91-100  (CoverStory). http://dx.doi.org/10.1039/C6SC03707K

(13) Peng Zhang, Tuo Wang,and Jinlong Gong*, "Passivation of Surface States by ALD-Grown TiO2Overlayers on Ta3N5 Anodes for Photoelectrochemical WaterOxidation," Chem. Commun. 2016, 52, 8806-8809(Cover Story). http://dx.doi.org/10.1039/C6CC03411J

(12) Chengcheng Li, Tuo Wang*,Zhibin Luo, Shanshan Liu, Wenping Hu, and Jinlong Gong*, "Enhanced ChargeSeparation through ALD-modified Fe2O3/Fe2TiO5 Nanorod Heterojunction forPhotoelectrochemical Water Oxidation," Small 2016,12, 3415-3422.  http://dx.doi.org/10.1002/smll.201600940

(11) Zhibin Luo, Chengcheng Li, DongZhang, Tuo Wang*, and Jinlong Gong*, "Highly-orientedFe2O3/ZnFe2O4 Nanocolumnar Heterojunction with Improved Charge Separation forPhotoelectrochemical Water Oxidation," Chem. Commun.2016,52, 9013-9015 (invited for Emerging Investigators issue) (Cover Story). http://dx.doi.org/10.1039/C5CC09321J

(10) Tuo Wang and JinlongGong*, "Single-crystal Semiconductors with Narrow Band Gaps for SolarWater Splitting," Angew. Chem. Int. Ed. 2015, 54,10718-10732. (Cover Story).  http://dx.doi.org/10.1002/anie.201503346

(9) Chengcheng Li, Tuo Wang, ZhibinLuo, Dong Zhang, and Jinlong Gong*, "Transparent ALD-grown Ta2O5Protective Layer for Highly Stable ZnO Photoelectrode in Solar WaterSplitting,"  Chem. Commun. 2015, 51,7290-7293 (Cover Story).  http://dx.doi.org/10.1039/C5CC01015B

(8) Tuo Wang, Rui Lv, PengZhang, Changjiang Li, and Jinlong Gong*, "Au Nanoparticles Sensitized ZnONanopencil Arrays for Photoelectrochemical Water Splitting," Nanoscale2015, 7,77-81 (Cover Story).  http://dx.doi.org/10.1039/C4NR03735A

(7) Tuo Wang, ChangjiangLi, Junyi Ji, Yijia Wei, Peng Zhang, Shengping Wang, Xiaobin Fan, andJinlong Gong*, "Reduced Graphene Oxide (rGO)/BiVO4 Compositeswith Maximized Interfacial Coupling for Visible-lightPhotocatalysis," ACS Sustainable Chem. Eng. 2014, 2,2253-2258 (Cover Story).  http://dx.doi.org/10.1021/sc5004665

(6) Tuo Wang, ZhibinLuo, Chengcheng Li, and Jinlong Gong*, "Controllable Fabricationof Nanostructured Materials for Photoelectrochemical Water Splitting via AtomicLayer Deposition," Chem. Soc. Rev. 2014, 43,7469-7484 (invited) (Cover Story).  http://dx.doi.org/10.1039/C3CS60370A

(5) Tuo Wang, John G. Ekerdt*,"Atomic Layer Deposition of Tantalum-incorporated Hafnium Dioxide:Strategies to Enhance Thermal Stability," J. Electrochem. Soc. 2011, 158,G185-G193. http://dx.doi.org/10.1149/1.3598172

(4) Tuo Wang, Junwei Wei,Michael C. Downer, and John G. Ekerdt*, "Optical Properties ofLa-incorporated HfO2 upon Crystallization," Appl.Phys. Lett. 2011, 98, 122904. http://dx.doi.org/10.1063/1.3567522

(3) Tuo Wang, John G. Ekerdt*,"Structure versus Thermal Stability: The Periodic Structure of AtomicLayer Deposition-Grown Al-Incorporated HfO2 Films and ItsEffects on Amorphous Stabilization," Chem. Mater. 2011, 23,1679-1685. http://dx.doi.org/10.1021/cm9001064

(2) Tuo Wang, John G. Ekerdt*,"Subnanoscale Lanthanum Distribution in Lanthanum-Incorporated HafniumOxide Thin Films Grown Using Atomic Layer Deposition," Chem.Mater. 2010, 22, 3798-3806. http://dx.doi.org/10.1021/cm903386c

(1) Tuo Wang, John G. Ekerdt*,"Atomic Layer Deposition of Lanthanum Stabilized Amorphous Hafnium OxideThin Films," Chem. Mater. 2009, 21,3096-3101. http://dx.doi.org/10.1021/cm9001064

haorizi111

11月12日，在2022世界青年科学家峰会开幕式上，第十七届中国青年科技奖揭晓并举行颁奖仪式，我院王拓教授获此殊荣。
        王拓，天津大学化工学院教授，围绕“薄膜的气相沉积”开展薄膜沉积系统的设计开发工作，并将其应用于芯片制造与光解水制氢体系。利用致密保护层薄膜解决了光解水电极活性与稳定性的制衡问题；沉积高质量钝化层，构筑界面间高效电荷传输通道；消除沉积反应器放大效应，实现了工业尺寸薄膜电极的模组化放大。共发表SCI论文110余篇，被SCI源期刊引用8300余次，曾获2019年国家自然科学二等奖（排名5）、侯德榜化工科技青年奖。
       中国青年科技奖于1987年设立的，是面向全国广大青年科技工作者的奖项。该奖项由钱学森等老一辈科学家提议设立，由中央组织部、人力资源和社会保障部、中国科协共同设立并组织实施，旨在造就一批进入世界科技前沿的青年学术和技术带头人；表彰奖励在国家经济发展、社会进步和科技创新中作出突出成就的青年科技人才。中国青年科技奖每两年评选一届，每届表彰不超过100名，由当届获奖者中产生的中国青年科技奖特别奖获奖者不超过10名。