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[专家学者] 成都理工大学材料与化学化工学院刘春海

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发表于 2017-12-17 10:22:49 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

博士 副教授 硕士生导师
单位:成都理工大学材料与化学化工学院
电话:+86-028-84079027
传真:+86-28-84079074
电邮:lch0957@163.com

基本情况:
  刘春海,男,四川内江人,博士,副教授,硕士生导师。2011年6月毕业于四川大学核技术及应用专业,获工学博士学位。2011年7月至2017年8月,于四川理工学院材料科学与工程学院任教;2017年9月至今,于本校材料科学与工程系任教。主要从事材料科学领域教学与研究工作,主要研究方向为材料表面改性技术、纳米金属功能薄膜和新型耐蚀合金涂层。主持国家自然科学基金青年基金项目、四川省教育厅项目、自贡市科技局重点项目等共6项。发表学术论文20余篇,获得授权中国发明专利2项。

讲授课程:
本科生课程:粉末冶金原理与工艺,金属材料学
硕士研究生课程:暂无

研究领域:材料学
研究方向:材料表面改性技术、纳米金属功能薄膜和新型耐蚀合金涂层。

主要科研项目:
[1] 高熵合金涂层的等离子体制备与耐腐蚀性能研究,国家自然科学基金青年基金项目(51201111),主持;
[2] 高熵合金涂层的耐腐蚀性能研究,材料腐蚀与防护四川省重点实验室基金项目(2011CL15),主持;
[3] 基于集成电路铜互连的低阻、超薄金属扩散阻挡层设计及其微结构研究,四川理工学院人才引进基金项目(2011RC05),主持;
[4] FeMoNiCrCu0.5高熵合金涂层提高X80钢耐蚀性研究,四川省教育厅项目(12ZB285),主持;
[5] 基于统计学习模型的金属Cu互连体系扩散阻挡能的表征,国家自然科学基金面上项目(50771069),主研;
[6] 超大规模集成电路铜互连扩散阻挡层性能评价模型研究,四川省科技厅支撑计划项目(2008FZ0002),主研;
[7] 氢辐照W和Mo涂层的微观结构研究,教育部辐射物理及技术教育部重点实验室资金资助项目(K2005-02),主研;
[8] 铜互连用界面扩散阻挡层的材料设计及其服役性能研究,国家自然科学基金面上项目(51171124),参与;
[9] Cu/low-k介质阻挡层异质界面等离子体耦合强化设计及相关性能研究,国家自然科学基金面上项目(11075112),参与;

主要学术论文:
[1] X.J. Cui, C.H. Liu, Y.R. Yang, M.T. Li, X. Z. Lin, Self-sealing micro-arc oxidation coating on AZ91D Mg alloy and its formation mechanism Surface & Coatings Technology, 269(2015) 228–237.
[2] C.H.Liu, Y.Z.Jin, X.J.Cui, R.S.Yang,Interface stability and microstructure of ultrathin Mo/MoN diffusion barrier in Cu interconnects,Materials Research Innovations,2013, 17:70-74.
[3] C.H. Liu, W. Liu, Y.H. Wang, Y. Wang, Z. An, Z.X. Song c, K.W. Xu,Interface stability and microstructure of an ultrathin a-Ta/graded Ta(N)/TaN multilayer diffusion barrier, Microelectronic Engineering, 98 (2012) 80–84.
[4] C.H. Liu, Y. Wang, B. Liu, J. J. Yang ,Z. An, Design and fabrication of ultrathin and highly thermal-stable α-Ta/graded Ta(N)/TaN multilayer, Journal of Physics D: Applied Physics, 44 (2011) 075302.
[5] 刘春海,罗 宏,金永中,宋忠孝,陈顺礼,汪 渊,安 竹,刘 明,梯度 α-Ta(N)/TaN 双层阻挡层的制备及性能表征,稀有金属材料与工程,2012,41(10):1855-1858.
[6] B. Liu, J.J. Yang, C.H. Liu, Y. Wang, Ultrathin CuSiN/p-SiC:H bilayer capping barrier for Cu/ultralow-k dielectric integration, Applied Physics Letters. 94/15 (2009) 153116.
[7] C. H. Liu, N. K. Huang, D. Z. Wang and B. Yang, Microanalyses on Mo films before and after hydrogen ion irradiation, Surface and Interface Analysis, 39 (2007) 937-941.

授权发明专利:
(1) 刘春海,王龙,龚敏,崔学军, 一种在X80管线钢基材表面制备AlTiCrNiTa高熵合金涂层的工艺, 中国发明专利,授权号:ZL201410497382.3,授权时间:2016年;
(2) 刘春海,汪渊,刘波,杨吉军,陈顺礼,深亚微米集成电路Cu互连用梯度扩散阻挡层制备工艺,中国发明专利,授权号:ZL200910216310.6,授权时间:2011年;


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