中科院苏州纳米所苏文明

yumian

苏文明，中科院苏州纳米所研究员，湖南人，2001-2007年中科院长春光机物理所硕博连读，主要从事OLED发光器件研究。2008年加入中科院苏州纳米所，主要从事印刷发光显示材料与器件、柔性薄膜封装、印刷柔性电路与金属网格透明导电膜等方面的研究。长期以应用需求为导向，聚焦于产业瓶颈技术，致力于印刷电子技术的产业化应用研究，与华为、TCL、欧菲光、维信诺、京东方、出光兴产等企业建立了紧密的项目合作关系，承担了多项国防项目任务。2018年接任“##计划”崔铮研究员任团队负责人。2013年入选中科院青年创新促进会，先导专项战略A类纳米产业制造子课题负责人，2019年入选地方产业化领军人才；承担及参与国家重点研发计划，国家基金海峡联合项目，江苏省重点研发计划任务，院、地及企业委托各类项目课题或任务共计30余项；累计发表SCI论文80余篇，累计引用1300余次，申请发明专利20项。


苏文明中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 , 项目研究员.


研究兴趣：柔性透明电极 , 印刷与柔性显示 , OLED材料与器件 , 微纳压印与制版 , 柔性薄膜封装 , 超高精度高密度FPC
研究成果与进展
柔性透明导电膜开发：
高导、高透、高柔、环保增材绿色印刷制造，性能与技术均高际领先，可替代ITO并具有成本优势，电路图形化无需蚀刻，工艺环保低成本

印刷电子中心原创技术: 结合微纳米压印与丝网印刷银墨水实现高性能柔性透明导电膜技术，产品透过率>88%，方阻小于0.03Ω/□，可以制在玻璃（含柔性超薄玻璃）、PET、PC上，混合印刷工艺，最大尺寸可达1米幅宽，可批量生产。包括纳米银、铜、镍网栅导电膜技术均已成熟，有成熟制版能力与成套方案解决能力。

应用于触摸屏：已大规模量产（转让于欧菲光），触屏产品广泛用于三星、联想、DELL、HP等国际知名品牌显示器上。在超大尺寸触屏灵敏度、加工制造技术上增有绝对优势：线宽小于5um, 方阻小于0.5 ohm/sq，透过率高于90%，均一性偏差小于2%。

透明电加热膜：已应用于欧州一家企业的直升飞机挡风玻璃加热除雾除冰（也可用于汽车挡风玻璃），在博物馆或地宫透明文物储物柜，及在军事上也将有广泛应用前景。超过90%的透过率不影响视觉，可模压成形，超低方阻可以在直流低压下快速升温加热，如在6V直流下可加热到120度。

应用于透明天线、透明驱动电路等技术均已成功开发，透明电极已成功应用三星的电话手表天线，在5G天线上有重要优势，已与华为进行技术合作开发！在透明电路上可以实现多层超薄、超轻、超精密（5-20um）、高密度（线间距小于20um）的电路加工。可兼应于各种柔性电路板、柔性传感器！

应用于光电子器件透明电极领域，是未来柔性显示柔性透明电极的优选方案：兼有高透高导高柔的全面优势。透明导电膜表面平整化处理后Ra小于1nm,目前已证明其用于OLED、QLED阳极的器件性能优于ITO，有望在大尺寸柔性白光照明产业技术上得到应用与推广。 因其方阻远低于ITO（约1%或更低），在应用于OPV、钙钛矿等薄膜电池特别是大尺寸模块的电极时可以大大减小能量转换效率的损耗减简化模组串并联设计。

技术获奖及支持：在2013年获纳米战略先导（A类）专项“纳米产业制造技术”之绿色印刷制造子课题4000万经费支持，各类横向经费支持数百万元；2014年该技术荣获2014年国际印刷电子“最佳制造技术进步奖”；2014年中国专利金奖。

OLED材料、器件与结构：
   主要开展可印刷多层高效OLED结构的新型可交连传输材料、磷光OLED主客体材料、可交连TADF材料合成，OLED器件结构与性能、器件物理方面的基础研究，发展纳米压印及印刷微结构的光提取技术研究；重点围绕开发高效率印刷OLED器件结构材料体系，实现高稳定性能、长寿命的红、绿、蓝、白光OLED器件，并开展寿命与稳定性相关的封装及机理研究，为OLED产业开发储备可靠性应用技术。近两年在交连材料方面发表一系列SCI论文。在墨水配方与印刷OLED器件方面取得重要进展，印刷器件性能达到旋涂器件水平，与企业合作进行墨水国产化为目标的配方开发研究。

柔性薄膜封装：
  发展有机、无机多层交替的柔性薄膜封装技术，实现水氧渗透率低至10-6g/m2/d的高水汽渗透阻隔性能，满足印刷电子器件、柔性OPV与OLED的封装应用需求，重点围绕低温高致密薄膜生长技术，合作开发ICP－PECVD、ALD的薄膜封装设备及工艺整合及技术。

fengxixi

苏州纳米所印刷电子中心苏文明团队基于混合式印刷增材制造技术，优化压印模具结构参数，实现了2：1深宽比和4μm线宽的凹槽结构，再结合刮填薄层纳米银油墨的种子层，用电筹沉铜技术在凹槽中填满致密的铜。由于电沉积过程金属铜完全限制在凹槽中只能单向生长，避免了扩线，从而获得高深宽比的铜网格，因而在不影响光透过率的情况下增加了金属网格的厚度，同时电镀的网格具有铜本征的高电导率，最终在86%的高透光率下，方块电阻低至0.03 Ω/□，FOM值超过80000，达到国际领先水平（FOM是透明导电膜的综合质量因素，指光透过与方阻的比值，如ITO的FOM<300）。

　　该研究成果以Printable High-Aspect Ratio and High-Resolution Cu Grid Flexible Transparent Conductive Film with Figure of Merit over 80 000 为题在线发表在Adv. Electron. Mater. 2019, 1800991上（DOI: 10.1002/aelm.201800991），博士研究生陈小连为文章第一作者，苏文明与崔铮为共同通讯作者。该工作得到科技部重点研发计划、中科院纳米先导专项等的支持。

铜网格透明导电膜的制备流程示意图和光学图片