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葛海雄,南京大学教授。1999年于南京大学化学化工学院获高分子化学与物理博士学位,1999年11月到2000年12月,上海有机化学研究所博士后;2001年到2003年,美国普林斯顿大学电子工程系博士后;2005年1月到10月,美国加州大学洛杉矶分校机械与航空航天系访问学者。2004年1月起在南京大学现代工程与应用学院材料科学与工程系任副教授、教授。主要从事微纳加工技术与纳米压印技术的研究,研发了数种新型纳米压印材料;发展了复合高分子压印模板与曲面纳米压印技术;研制的紫外光固化和热压两用纳米压印设备已被国内外多家科研机构与生产企业所采用。在Nano Lett.、Adv.Func.Mater.、Appl.Phys.Lett.等国际学术刊物上发表论文40余篇,国内国际发明专利10多项。入选教育部新世纪优秀人才计划(2009年)。
葛海雄 教授
办公室地址: 唐仲英楼A403
办公室电话: 025-83621187
Email: haixiong@nju.edu.cn
研究方向:微纳加工与纳米压印技术及应用/功能高分子材料
开设课程: 大学化学
代表论文
1. Shen WJ, Ge HX, Chang J, et al. “Nanoscale electric lithography (NEL)” ABSTRACTS OF PAPERS OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY 231: - 92-COLL MAR 26 2006
2. Ge HX, Wu W, Li ZY, Jung GY, Olynick D, Chen YF, Liddle J A, Wang SY, and Williams RS “Cross-linked Polymer Replica of a Nanoimprint Mold at 30 nm Half-pitch” Nano Letters 2005, 5, 179-182.
3. Austin MD, Ge HX, Wu W, Li MT, Yu ZN, Wasserman D, Lyon SA, Chou SY,”Fabrication of 5 nm linewidth and 14 nm pitch features by nanoimprint lithography” APPLIED PHYSICS LETTERS 2004, 84, 5299-5301
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