PHI5000 Versaprobe III 多功能型扫描XPS微探针

PHI5000 Versaprobe III 多功能型扫描XPS微探针是PHI扫描XPS微探针设备最新产品,应用了PHI业界工业领先的专利扫描X-射线技术和专利双束中和技术,成为更高水平技术的多功能分析仪器。

       PHI5000 Versaprobe III 多功能型扫描XPS微探针关键技术:

新的分析器输入透镜,将灵敏度提高了两到三倍。

新的多通道探测器使得元素态和化学态成像速度更快。

新的角分辨技术(ADXPS)收集角+/-5°。

冷热样品台的温度范围得到提高,-140℃到+600℃。

新的加热专用样品托可加热至800℃。

新的四点接触式可转移的样品托用于原位电位控制实验。

新设计的UPS同时提高了灵敏度和改善了分辨率。

经过改善的俄歇技术提供了更高的灵敏度和更好的信噪比。

      PHI5000 Versaprobe III 多功能型扫描XPS微探针特征:

微聚焦的扫描X射线束
      高可靠自动分析
      微区图谱采集
      溅射深度剖析
     多技术分析真空测试室
     智能用户操作界面(SmartSoft-VersaProbe)
     数据处理软件(MultiPak)

微聚焦的扫描X射线源

扫描聚集X-射线技术是Versaprobe III的核心技术,也是PHI公司的专利技术。单色、扫描、聚集X-射线源可以更好地分析微观及宏观区域,全部的X射线设定(包括束斑直径小于10um的设定)都能用于采谱分析,深度剖析和影像分析。具体表现如下:

微聚焦的扫描X射线束

X射线束用于二次电子成像

XPS影像的每个像素点都可用于化学分析

单点或多点采谱分析

单点或多点薄膜分析

微区分析

极佳的微区分析功能:

鼠标点击定义分析区域

强大的Z轴自动校准功能

一键双束中和功能

在自动分析队列中,无须样品导电性。

高可靠性的自动分析功能:

一键中和

XPS可以分析固体表面既可以是导体和绝缘体的成分和化学状态,但对绝缘体分析时需要进行电荷补偿。VersaProbeIII采用低能电子束和离子束同时进行电荷补偿,该技术可以一键实现从导体到绝缘体的分析。

定位功能更加容易实现:

SmartSoft将实时的数据(如导航图,SXI,在线CCD)和测得的数据(如图谱,深度剖析和化学态分布像)在同一个界面上显示,只需在导航图上指定一个位置,样品台就会移动到该位置。另外,通过AutoZ和SXI, 更加精确的定位所要分析的位置。一键中和和自动聚焦(AutoZ)功能保证了自动分析的精确性,提高了分析效率,分析结果高度可重复。

深度剖析

优化机构设计

微米聚焦X射线

灵敏度更高的分析器

高效的离子枪

独特的双束中和功能

带Zalar Rotation™功能的样品台

微区的深度剖析功能

多点的深度剖析功能

MultiPak 数据处理软件

MultiPak 数据处理软件集成AES和XPS数据库:

MultiPak软件拥有最全面的能谱数据库。采谱分析,线扫描分析,成像和深度剖析的数据都能用MultiPak来处理。它强大的功能包括峰的定位,化学态信息的提取,定量测试,检测限的增强等。MultiPak能在设备自带的电脑上直接实时的处理数据生成报告,也能安装在其他电脑上,处理数据生成报告。

VP-III 多功能的技术集成平台:根据研发的需要,以下是 VP-III 的可选择的配置

1. 扫描X射线源(标配)

2. 进样室(可选配相机)

3. 离子枪(标配)

4. 能量分析器(标配)

5. CCD相机(标配)

6a. 标准五轴样品台(可选配带加热冷却功能的五轴样品台)

6b. 液氮罐(与6a选配配合使用)

7. 样品预处理室(选配)

8. C₆₀离子枪(选配)

9. 紫外光源(选配)

10. 双阳极,非单色X射线源(选配)

11. AES电子枪(选配)             

12. 20kV团簇离子枪(选配)

PHI5000 Versaprobe III 多功能型扫描XPS微探针应用领域:包括表面的元素与化学态分析(氢和氦除外)

表面物种的化学状态的识别,包括有机和无机材料,导体和绝缘体。

解析薄膜中的组成元素分布概况,包括半导体、薄膜结构,磁介质薄膜,光学镀膜,装饰涂料,和耐磨涂层。

容易受到电子束破坏的样品成分分析。

能源,环境,有机光电,太阳能电池等等。