PHI X-tool 是PHI XPS系列产品中包括了PHI Quantera-II 和PHI VersaProbe-III的新成员。PHI X-tool设计的主要目的在于降低对操作人员个人经验的要求, 操作人员可以触屏操作,就可以完成自动进样,自动检测分析,自动生成测试报告。PHI X-tool消除了操作人员对表面分析经验不足的问题,使分析工作变得更简单,并且更有效率。 PHI X-tool 自动化X射线光电子微探针能谱仪特点: 1. 配有多种样品观察系统 X-tool 中包括了多种样品观察系统,可以方便的做出样品定位。使用者可以使用对分析时最合适的方式去进行定位并精准的找到需要分析的位置。 2. 可以非常简易的进行自动分析操作 X-tool 在基于PHI公司专利的扫瞄聚焦型X射线的设计,再加上X-tool上最新开发非常简易的触碰屏操作软件,用家可以在3个简单的程序中完成不管是一般大至1.4mm的大面积分析已至小于50um的小区域分析都可以在自动的分析队刑中一次性的完成设定,大大的增加了仪器的效率和效益。 3. 高速的化学态成像分析 在扫瞄聚焦X射线配合上系统上超高灵敏度的侦测器,PHI X-tool 可以仪器称为Unscan模式的采谱方式下快速的完成XPS的成像,成像的过程永远是先谱后图而非带有高度不确定性的先图后谱。所得的数据可以使用 PHI MultiPak 分析数据软件去进行Linear Least Square (LLS) 处理,得到化学态成像的精准结果。 4. 最先进并且独特的硬件设计 PHI X-tool 的微聚焦X射线可以把分析面积范围设定在20um到1.4mm之间,而且系统配备了PHI独有的全自动双束中和系统,可以一次性的对不管是大面积或微区样对,导体或是绝缘体,有机或是无机材料进行排程队列的自动分析,也可以对样品材料表面进行面扫成像。而在仪器上更配有离子源,可以对样品刻蚀以进行XPS的深度分析。 PHI X-tool 自动化X射线光电子微探针能谱仪应用范围: Micro-Electronics 微电子, 电子封装 Polymer 高份子材料 Tribology 摩擦学 Magnetic 磁性材料, 硬盘, 蓝光光盘 Display Industries 显示工业 Graphene 石墨稀 Catalysis 催化剂 Energy related 能源产业 Glass 玻璃 Metal 金属 Ceramic 陶瓷 Semi-conductors 半导体 Bio-Medical 生医科学 声明:本网部分文章和图片来源于网络,发布的文章仅用于材料专业知识和市场资讯的交流与分享,不用于任何商业目的。任何个人或组织若对文章版权或其内容的真实性、准确性存有疑义,请第一时间联系我们,我们将及时进行处理。 |
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