PHI Quantera II扫描聚焦XPS微探针

PHI Quantera II扫描XPS探针是Ulvac-Phi公司以在业界获得非常卓越成绩的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所最新研发的XPS分析仪器,其革命性超卓技术包括有:一个独创微集中扫描的X射线来源,专利的双光束的电荷中和技术,在极低电压下仍可保持高性能的离子束源以进行XPS的深度分析,一个五轴精密的样品台和负责全自动样品传送的机械手臂,与及一个完全自动化且可支持互联网远程控制的仪器操作平台。Quantera II 增加了这些革命性的技术性能和生产力,再一次提供了最高性能的XPS系统,以满足您当前和未来的XPS需要。

PHI Quantera II扫描聚焦XPS微探针好处:

容易使用:无论您是在分析一个薄膜样品、有机聚合物、一个大的塑料镜片,不锈钢刀片又或是焊锡球;所有的仪器设置和设定都是完全相同的。用者只需用鼠标点在一个光学图像单击选择一个或多个分析地区,加上双光束中和系统和自动Z-轴高度调整功能,就可以透过仪器软件的自动队列执行所有分析。整个操作流程不需要任何的设定调整,不用因不一样样品成份而有任何顾虑,甚至也不需要有操作员整天待在仪器旁边;一切的操作都可以自动的完成。

薄膜分析:Quantera II 不仅提供了无机薄膜样本良好的深度剖面分析性能,而且也可以在利用C60离子枪对有机薄膜得出非常优越的深度分析结果。

扫描 XPS探针:PHI使用了独创的聚焦扫描X射线源,使XPS微区分析变得更高效。如图4所示,X射线源是经由聚焦电子光栅扫描并撞击在铝阳极上所产生的,而此产生的聚焦铝X射线会再透过椭球形状的单色器反射在样品表面上。当电子束扫描在铝阳极上时,所产生的X射线束在样品上也会作出同步的扫描。X射线束的直径大小可调范围为7.5微米以下到400微米以上。

微区光谱:在光学显微镜,在这透明的聚合物薄膜表面上是没有发现任何污染物的。但是如以下图5中所示,使用二次电子影像时就立即显示了在聚合物表面上的化污染物的存在。在短短几分钟内,Quantera II仪器就可以利用一个直径为20微米的X射线束得到确定的氟碳污染物。

PHI Quantera II扫描聚焦XPS微探针特点:

X射线探针≤7.5微米的空间分辨率

高灵敏度的静电检测光学系统

双射束中和系统

自动化的样品传输处理

仪器可容纳最大样品直径为100毫米和25毫米厚

两个的内部样品平台暂停区

高性能的离子枪

高速的深度分析

元素态或化学状的XPS成像

自动角分辨分析

PHI MultiPak 数据处理软件

PHI Quantera II扫描聚焦XPS微探针可选配件:

样品定位系统 (SPS)

热/冷样品台

冷样品引入装置

样品传输室和外部测试站

C60离子枪

Ar2500 GCIB离子枪

PHI Quantera II扫描聚焦XPS微探针应用范围:

化学:化学涂料,聚合物,催化剂。

材质:金属,薄膜,纳米材料。

电子:半导体,磁盘,微电子技术和显示技术。

生物医学与生物医学设备。